据外网媒体SamMobile消息,近日,三星电子老板李在镕与半导体芯片设备制造商ASML达成重要业务交易。
据称,三星电子与ASML签署了一项价值1万亿韩元(7.55亿美元)的协议,ASML和三星两家公司将在韩国投资建设半导体芯片研究工厂,开发EUV技术。
三星电子副会长、设备解决方案部门负责人Kyung Kye-hyun强调,该公司的最新协议将帮助其获得下一代High-NA(数值孔径)EUV光刻扫描仪设备。
Kyung说:“三星已经确保了对High-NA设备技术的优先权,我相信我们创造了一个机会,从长远来看,我们可以优化High-NA技术在DRAM存储芯片和逻辑芯片生产中的使用。
此前,ASML曾称将于未来几个月内推出用于2nm制程节点的芯片制造设备,将数值孔径(NA)光学性能从0.33提高到0.55。
据称,ASML明年规划产能仅有10台,而英特尔已经预订了其中6台,再加上三星所获取的光刻机设备,目前留给台积电的机会似乎并不多了,不过ASML计划在未来几年内将此设备产能提高到每年20台。
目前,ASML官网列出的EUV光刻机仅有两款 ——NXE:3600D和NXE:3400C,均配备0.33 NA的反射式投影光学器件及13.5nm EUV光源,分别适用于3/5nm和5/7nm芯片制造。
根据Gartner分析师Alan Priestley的预测,0.55 NA EUV光刻机单价将翻番到3亿美元。
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