该技术可以通过减少镜头光晕和重影等伪影来提高照片质量。

韩国方面消息称，苹果正在为未来的iPhone相机测试一种新的抗反射光学涂层技术，该技术可以通过减少镜头光晕和重影等伪影来提高照片质量。

据Naver博客上的新闻聚合账号“yeux1122”援引苹果供应链中消息人士的话称，苹果正在考虑将新的原子层沉积(ALD)设备引入iPhone相机镜头的制造过程。

ALD涉及一次在基片上沉积一层原子层的材料，允许对厚度和成分进行极其精确的控制。它的使用使制造商可以将非常薄的材料层应用到半导体设备上，包括相机组件。

在相机镜头方面，ALD可用于应用抗反射涂层，这有助于减少当阳光等明亮光源直接照射到镜头时最终图像中可能出现的光线条纹和光晕等摄影伪影。

ALD还可以减少重影，这是一种图像失真类型，在照片中出现微弱的次要图像，通常与明亮的光源相对。当光线在镜头元件和相机传感器的表面之间来回反射时，就会发生这种情况。

此外，应用了ALD的材料可以防止环境对相机镜头系统的破坏，而不会影响传感器有效捕捉光线的能力。

Naver博客声称，这种制造工艺将被应用于苹果“下一代”iPhone阵容中的“Pro机型”，这听起来像是指iPhone 16系列中的一款或两款高端机型。

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